光刻技術領導者ASML與比利時imec微電子研究中心近日聯合宣布，雙方已簽署一項為期五年的全新戰(zhàn)略合作協(xié)議。此次合作旨在結合雙方在先進半導體工藝及可持續(xù)發(fā)展領域的深厚知識與專業(yè)優(yōu)勢。

根據協(xié)議內容，imec主導的后2nm制程節(jié)點SoC中試線NanoIC，將引入ASML的一系列尖端設備，其中就包括了High NA EUV光刻機。雙方的合作領域還將拓展至硅光子學、存儲技術以及先進封裝技術。

ASML不僅在技術和設備方面提供支持，還將為imec在探索環(huán)境效益和社會效益方面的創(chuàng)新項目提供資金支持。這一舉措展現了ASML對社會責任和可持續(xù)發(fā)展的重視。

ASML的首席執(zhí)行官Christophe Fouquet對此表示：“這份協(xié)議標志著ASML與imec長期合作關系的進一步深化。它體現了我們共同致力于半導體行業(yè)解決方案開發(fā)的堅定決心，同時也符合我們通過技術創(chuàng)新回饋社會的戰(zhàn)略愿景。”

imec的首席執(zhí)行官Luc Van den Hove同樣表達了對合作的積極態(tài)度：“我們非常高興能夠繼續(xù)與ASML保持這種獨特且持久的合作關系。三十多年來，我們一直在為行業(yè)提供前沿的圖案化解決方案。ASML全系列產品的加入，將極大地提升我們中試線的能力，使其更加成熟，為半導體生態(tài)系統(tǒng)提供應對AI技術進步挑戰(zhàn)的最先進技術。”

Luc Van den Hove還強調：“imec高度重視可持續(xù)創(chuàng)新，將這一理念明確納入我們的合作伙伴關系中，無疑是對我們合作的一個完美補充。”