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臺積電2nm制程工藝領跑,良品率超預期達60%!

   時間:2024-12-06 22:10 來源:ITBEAR作者:柳晴雪

近期,半導體制造業巨頭臺積電在制程技術方面取得了新的突破。據悉,該公司已經將研發與量產的重點,從剛剛在今年12月實現商業化量產的3nm制程工藝,轉向了更為先進的2nm制程工藝。

據內部消息透露,臺積電的2nm制程工藝有望在即將到來的2025年一季度,于楠梓產業園區正式啟動運營。這一工藝采用了全新的納米片電晶體架構,預期在同等速度下能效將提升20%至30%,或在同等能耗下速度提升10%至15%,標志著新一代半導體技術的到來。

尤為臺積電2nm制程工藝的良品率表現異常出色,已經超出了最初的預期,達到了60%以上的高水平。這一成果無疑為臺積電進一步擴大該制程工藝的量產規模,并將其應用于更多產品線提供了堅實的基礎。

臺積電的高層對2nm制程工藝的前景充滿信心。公司董事長兼CEO魏哲家多次在公開場合表示,2nm制程工藝的研發進展順利,正按照既定計劃穩步向前推進,預計將在2025年內實現全面量產。

隨著臺積電2nm制程工藝的逐步推進,全球半導體行業將迎來新一輪的技術革新和產業升級。這不僅將進一步提升臺積電在全球半導體市場的競爭力,也將為整個行業的發展注入新的活力和動力。

 
 
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