武漢東湖新技術開發區管理委員會（中國光谷）傳來振奮人心的消息，光谷企業在半導體專用光刻膠領域取得了重大突破。武漢太紫微光電科技有限公司（簡稱“太紫微公司”）自主研發的T150 A光刻膠產品，已成功通過半導體工藝量產驗證，實現了配方全自主設計，有望改寫國內半導體光刻制造的格局。
據中國光谷官方介紹，T150 A光刻膠產品與國際頭部企業主流的KrF光刻膠系列相當，尤其在極限分辨率上達到了120nm，相較于國外同系列“妖膠”UV1610，T150 A展現出更大的工藝寬容度、更高的穩定性以及優異的堅膜后烘留膜率，對后道刻蝕工藝更為友好。驗證結果顯示，T150 A在密集圖形刻蝕后，下層介質的側壁垂直度表現尤為出色。
公開資料顯示，太紫微公司成立于2024年5月，是由華中科技大學武漢光電國家研究中心團隊創立的新興企業。公司企業負責人朱明強教授，同時也是英國皇家化學會會員，他表示：“從原材料的開發起步，到最終獲得具有自主知識產權的配方技術，這只是我們的初步成果。未來，我們的團隊還將研發一系列適用于不同場景的KrF與ArF光刻膠，為國內相關產業帶來更多創新與突破。”
