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2025 IEEE ISSCC日程揭曉:三星等巨頭將展示最新存儲技術(shù)突破

   時(shí)間:2024-11-27 11:30 來源:ITBEAR作者:陸辰風(fēng)

近日,備受矚目的2025 IEEE ISSCC國際固態(tài)電路會議日程在ISSCC官網(wǎng)上正式揭曉,這一科技界的盛會將于明年2月16日至20日在美國加利福尼亞州的舊金山盛大召開。

在會議的高光時(shí)刻——17日的全體會議上,四位業(yè)界領(lǐng)袖將登臺發(fā)表精彩演講。其中,英特爾的首席執(zhí)行官帕特·基辛格將深入探討人工智能領(lǐng)域的多層次技術(shù)創(chuàng)新,而三星電子的存儲器業(yè)務(wù)負(fù)責(zé)人李禎培則將聚焦AI存儲器的最新發(fā)展趨勢。

會議日程中,SRAM、非易失性存儲與DRAM的專題研討會備受關(guān)注,它們均安排在2月19日進(jìn)行。臺積電將在此次研討會上展示其采用2nm Nanosheet制程的SRAM,存儲密度高達(dá)38.1 Mb/mm2,這一成果令人矚目。同時(shí),英特爾也將展示其采用BSPDN背面供電設(shè)計(jì)的Intel 18A RibbonFET工藝高密度SRAM,展現(xiàn)了其在半導(dǎo)體領(lǐng)域的領(lǐng)先地位。

在非易失性存儲與DRAM領(lǐng)域,各大廠商同樣帶來了令人期待的成果。三星電子將展示其采用晶圓鍵合技術(shù)的4XX層堆疊1Tb容量3D TLC NAND,存儲密度高達(dá)28Gb/mm2,I/O引腳速率更是達(dá)到了5.6Gb/s,預(yù)計(jì)這將是其第10代V-NAND的代表作。而鎧俠-西部數(shù)據(jù)聯(lián)盟則推出了I/O引腳速率為4.8Gb/s的1Tb 3D TLC NAND,其讀取操作能效提升了29%。

在GDDR7方面,三星電子也展示了其最新成果——42.5Gbps的24Gb產(chǎn)品,這與此前宣布成功開發(fā)的型號相契合。三星電子還將展出其第5代10nm級(1bnm、12nm級)工藝的超高速16Gb LPDDR5-Ultra-Pro DRAM,I/O引腳速率高達(dá)12.7Gb/s,進(jìn)一步提升了存儲性能。

SK海力士同樣不甘示弱,帶來了321層(V9)2Tb QLC NAND,其編程吞吐量高達(dá)75MB/s,這一堆疊數(shù)量和單元結(jié)構(gòu)的閃存產(chǎn)品此前已在FMS 2024展會上亮相。SK海力士還與鎧俠合作開發(fā)了新型64Gb DDR4 STT-MRAM,該存儲器件結(jié)合了交叉點(diǎn)存儲和磁隧道節(jié)結(jié)構(gòu),為存儲領(lǐng)域帶來了新的突破。

 
 
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