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ASML新款EUV光刻機EXE:5200問世,中國廠商無緣采購引關(guān)注

   時間:2025-02-01 18:21 來源:ITBEAR作者:楊凌霄

近期,國際科技界傳來一則重要消息,荷蘭高端光刻機制造商ASML公司正式宣告,其最新研發(fā)的EUV光刻機型號EXE:5200即將面世并交付客戶。這款機器相較于前任型號,性能有了顯著提升,但據(jù)稱將不會對中國企業(yè)開放銷售。

據(jù)悉,EXE:5200是在初代High NA EUV光刻機EXE:5000的基礎(chǔ)上進行了全面升級。其最大的亮點在于晶圓吞吐量的激增,每小時可輕松處理超過185片晶圓,這對于2nm工藝的大規(guī)模生產(chǎn)無疑是一大利好。

早在之前,ASML就已宣布,業(yè)界首臺TWINSCAN EXE:5200光刻機已被英特爾訂購。這款光刻機不僅擁有高數(shù)值孔徑,而且晶圓處理能力超過每小時200片,標(biāo)志著0.55 NA EUV技術(shù)的又一重大突破。TWINSCAN EXE:5000與EXE:5200均裝備了0.55數(shù)值孔徑的透鏡,相較于之前0.33數(shù)值孔徑的透鏡,精度實現(xiàn)了質(zhì)的飛躍,為更小尺寸的晶體管功能提供了前所未有的高分辨率。

ASML公司強調(diào),EUV 0.55 NA技術(shù)旨在從2025年起,應(yīng)用于多個未來的技術(shù)節(jié)點,并逐步推廣至類似密度的內(nèi)存技術(shù)中。這一技術(shù)的推出,無疑將為半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展注入新的活力,推動芯片制造邁向更高水平。

 
 
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