近期，國際科技界傳來一則重要消息，荷蘭高端光刻機制造商ASML公司正式宣告，其最新研發的EUV光刻機型號EXE:5200即將面世并交付客戶。這款機器相較于前任型號，性能有了顯著提升，但據稱將不會對中國企業開放銷售。
據悉，EXE:5200是在初代High NA EUV光刻機EXE:5000的基礎上進行了全面升級。其最大的亮點在于晶圓吞吐量的激增，每小時可輕松處理超過185片晶圓，這對于2nm工藝的大規模生產無疑是一大利好。
早在之前，ASML就已宣布，業界首臺TWINSCAN EXE:5200光刻機已被英特爾訂購。這款光刻機不僅擁有高數值孔徑，而且晶圓處理能力超過每小時200片，標志著0.55 NA EUV技術的又一重大突破。TWINSCAN EXE:5000與EXE:5200均裝備了0.55數值孔徑的透鏡，相較于之前0.33數值孔徑的透鏡，精度實現了質的飛躍，為更小尺寸的晶體管功能提供了前所未有的高分辨率。
ASML公司強調，EUV 0.55 NA技術旨在從2025年起，應用于多個未來的技術節點，并逐步推廣至類似密度的內存技術中。這一技術的推出，無疑將為半導體行業的發展注入新的活力，推動芯片制造邁向更高水平。
