TechInsights最近的分析揭示，ASML的EUV光刻機(jī)功耗驚人。據(jù)悉，0.33 NA型號(hào)的功耗已達(dá)1170千瓦，而更先進(jìn)的0.55 NA（High NA）型號(hào)預(yù)計(jì)將飆升至1400千瓦，這相當(dāng)于約1000臺(tái)滿載電火鍋的能耗。

隨著EUV技術(shù)的普及，其對(duì)能源的需求也日益凸顯。據(jù)統(tǒng)計(jì)，目前有31家晶圓廠采用這項(xiàng)技術(shù)，預(yù)計(jì)到2030年將激增至59家。而EUV光刻設(shè)備的數(shù)量，預(yù)計(jì)將增長(zhǎng)超過一倍。

這一增長(zhǎng)趨勢(shì)意味著，到2030年，全球EUV光刻機(jī)的電力消耗將達(dá)到驚人的6100吉瓦時(shí)。這一數(shù)字與盧森堡和柬埔寨兩國(guó)2020年的總用電量相當(dāng)。值得注意的是，在半導(dǎo)體晶圓廠中，EUV光刻機(jī)的用電量?jī)H占總用電量的11%左右。其他工藝設(shè)備和HVAC系統(tǒng)同樣產(chǎn)生了巨大的能源消耗。

當(dāng)前，半導(dǎo)體行業(yè)正面臨重大抉擇。一方面，EUV光刻技術(shù)在推動(dòng)創(chuàng)新和滿足先進(jìn)芯片需求方面發(fā)揮著關(guān)鍵作用；另一方面，該技術(shù)帶來的能源負(fù)擔(dān)也不容忽視。

分析機(jī)構(gòu)指出，隨著技術(shù)的不斷進(jìn)步和市場(chǎng)的持續(xù)擴(kuò)張，半導(dǎo)體行業(yè)需要在保持創(chuàng)新的同時(shí)，積極探索節(jié)能減排的解決方案，以實(shí)現(xiàn)可持續(xù)發(fā)展。